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化学气相沉积CVD技术简介

更新时间:2023-10-24      浏览次数:790

化学气相沉积(CVD)技术是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术。在典型的CVD工艺过程中,把一种或多种蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下发生化学反应并在衬底表面形成需要的薄膜。由于CVD技术具有成膜范围广、重现性好等优点,被广泛用于多种不同形态的成膜。北方华创微电子凭借十余年的微电子领域精密工艺设备开发经验,致力于为集成电路、半导体照明、微机电系统、功率半导体、化合物半导体、新能源光伏等领域提供各种类型的CVD设备,满足客户多种制造工艺需求。北方华创微电子开发的卧式PECVD 已成功进入海外市场,为多家*光伏制造厂提供解决方案。而硅外延设备在感应加热高温控制技术、气流场、温度场模拟仿真技术等方面取得了重大的突破,达成了优秀的外延工艺结果,获得多家国内主流生产线批量采购。面向LED领域介质膜沉积的PECVD设备,凭借优秀的工艺性能和产能优势,已成为LED客户扩产优选设备。

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